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石家庄半导体行业反渗透纯水设备的特点表现在哪里?出水稳定

返回列表 来源:新萄京娱乐场网址5197 浏览:- 发布日期:2022-05-12 10:30:00【

半导体行业反渗透纯水设的特点表现在哪里?在半导体材料的生产和清洗工作中,需要使用反渗透超纯水设备来进行超纯水的制备,实现水质生产的绝缘接触。半导体行业使用纯水设备通常表现为水量小,标准高,工艺复杂等几个方面。接下来我们就来解析一下半导体行业使用反渗透超纯水设备的性能优势。

1 水量不大

在集成电路、光伏发电、电子产品和通信领域之中,半导体材料大行其道,其中尤以单晶硅和多晶硅的应用广泛,且研究至今,工艺逐渐成熟。在半导体生产过程中清洗金属制品的时候,对于水量的要求通常在0.5吨/时-3吨/时不等。

半导体行业反渗透纯水设备

2 出水标准高

超纯水的定义是去除水中导电介质的水质,符合单晶硅生产的绝缘条件。对于单晶硅清洗的出水,通常规定为电阻率要达到18兆欧,自然水电导率高且在硬度、浊度、总大肠菌群等多种指标是远远无法达到出水标准的,为此需要用到超纯水设备对原水进行处理。

3 工艺复杂

在食品加工行业或者化工行业,可能单极或者双极反渗透设备就可以满足条件。但是在半导体行业,双级反渗透工艺也是远远不够的,而是需要在双级反渗透的基础上加上edi连续电解除盐装置甚或抛光混床才可以。

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