单晶硅清洗环节用超纯水设备有哪些优势?
单晶硅作为一种半导体材料,用于制造半导体设备、太阳能电池等。无论应用于哪个行业,都要对其进行加工和清洗。超纯水设备是一种高电阻率、无杂质、无导电性的设备,可满足单晶硅的清洗要求。
单晶硅清洗超纯水设备采用双反渗透和EDI抛光混床制水方式。设备由预处理系统、反渗透主机系统、离子交换混床(EDI电脱盐系统)系统等组成。该设备有以下几个优势:
1.无需酸碱再生
在混床中,树脂需要用化学酸和碱进行再生,而EDI消除了在床酸和碱再生过程中产生的废酸和碱的处理和繁重工作,并保护了环境。
2.出水连续稳定,操作简单
在混床中,由于每次再生和水质的变化,操作过程变得复杂,而EDI模块的产水过程稳定连续,水质恒定,没有复杂的操作程序,操作过程简化。
3.模块化设计
超纯水处理设备采用积木式结构,可根据现场高度和模块化设计灵活构造,使EDI在生产过程中易于维护。
4.不需要试剂和任何回收的化学品
不需要中和剂,因为EDI膜块不会产生酸碱废液。无需使用任何回收的化学品进行再生,这减少了化学品运输问题,并降低了系统的运行成本。